随着科学技术的发展，人们对光学元件的表面粗糙度和表面面形精度提出了越来越高的要求，光学元件表面缺陷检测技术也受到了广泛重视。通过简述表面缺陷的类型，强调了缺陷给光学系统带来的危害，由此分析和讨论了目前国内外对光学元件疵病的检测方法，并指出各种方法的优缺点，同时对机器视觉技术在疵病检测方面的应用进行了介绍，还探讨了光学元件表面缺陷检测技术未来发展需要注意解决的问题。

德克萨斯大学奥斯汀分校的研究人员开发了一种混合纳米材料，能够对光学元件进行写入、擦除和重写操作。研究人员认为，这种纳米材料及开发技术可以用来创造新一代的光学芯片和电路。在杂志《Nano Letters》发表的研究中，该德克萨斯团队描述了如何通过从等离子体表面开始创建他们的新型混合纳米材料的过程。

近日，中科院上海光机所信息光学与光电技术实验室司徒国海研究员课题组与首都师范大学物理系张岩教授课题组合作提出可重构的太赫兹超表面实施方案。该技术方案在太赫兹波段实现了任意、快速的波前，为可重构超表面的发展提供了新的思路和实验验证。